半导体可饱和吸收器件是超快激光器核心锁模器件之一，常见的有半导体可饱和吸收镜SESAM和透射可饱和吸收体SA。通常SESAM反射层和吸收体层生长在GaAs基底上，包含一个半导体布拉格反射镜层和一个量子阱吸收层，在光路中以反射模式工作；而SA则不带布拉格反射镜层，在光路中以透射模式工作。

      无论是SESAM还是SA，正常情况下无需清洁可饱和吸收体工作面！ 尽管其表面做过钝化处理，但任何不正确的清洁方式都有可能导致表面可饱和吸收层被破坏。当发现可饱和吸收器件工作面有污染，如灰尘等，可尝试用压缩空气或氮气吹扫来清除污染物。非必要请勿触摸可饱和吸收器件工作面或者使用不正确的清洁溶剂清洁。同时在夹持可饱和吸收器件时请使用晶圆专用软头镊子。

      下面介绍半导体可饱和吸收镜SESAM的湿法清洁方法。

清洁前请准备：

·        高纯度溶剂，如无水乙醇、甲醇、丙酮等

·        无绒光学镜头清洁纸巾（例如Thorlabs MC-5等）

·        专用镊子和钳子（弯头更佳）

*不要用手触摸任何器件部件，强烈建议在清洁过程中全程佩戴手套（对使用的溶剂具有不可穿透性）！

首先，确保不能通过使用压缩空气或氮气吹扫来清除污染物，否则不建议使用湿法清洁SAM。如果确定无法清除，请按照以下步骤操作：

        1.    请使用无绒镜头清洁纸，并对折几次。然后按下图所示将其夹入镊子。不要触摸任何会接触到芯片的清洁纸部分。

        2.    用几滴溶剂将折叠的清洁纸完全弄湿，并甩掉多余的液体（重要，否则液体残留可能造成二次污染）。

        3.    将夹紧的清洁纸放在光学表面上，从光学表面的中心开始，缓慢向其中一边擦拭，然后从这条边开始，再擦向另一条边。请仅施加轻微的压力！并请在每个擦拭步骤中使用清洁纸上未使用过的部分！清洁只需一次，请勿来回多次往复清洁！！！

      擦拭后，确保光学表面无残留溶剂。残留溶剂会变干并留下残留颗粒，导致二次污染。如果表面在擦拭过程中或擦拭后直接变干，这是因为清洁纸巾达到了最佳的润湿效果，清洁已经完成，请勿重复擦拭！