选择性加工之: 聚合物、玻璃和硅薄膜图案化
选择性加工之: 聚合物、玻
透明导电膜（TCF）广泛应用于现代电子设备。这些薄膜可以在玻璃、硅或聚合物衬底上导电。TICC被用作OLED和太阳能电池的电极，或者仅作为你最喜欢的手机触摸屏上的导电层。
图1:透明导电膜是所有触摸屏技术的基础
在TCF家族中，氧化铟锡（ITO）因其优异的透明度和电性能而成为行业标准。氧化石墨烯（GO）或PEDOT等最新材料在柔性电子领域展现出巨大的潜力，因为它们比ITO材料更容易弯曲。
透明导电膜的图案化
这些导电层的图案化是一个非常重要的制造过程，它允许去除该层的某些部分，以使表面电性能功能化，并根据应用程序在该层上创建电路。与光刻相比，激光图案化是一种有前景的处理方法，因为它可以灵活地以非常高的吞吐量定制图案，同时无需使用耗材和预处理步骤。
当涉及到TCF的激光图案化时，最大的挑战之一是能够选择性地去除薄膜而不影响下面的基板（玻璃、聚合物、硅等）。根据沉积工艺或应用，最好去除基材上方的TCF层（前处理）或通过基材（后处理），如图2所示。
图2:TCF激光图案化的两种方法：正面和背面处理
薄膜的中红外选择性激光图案化
为了克服这些挑战，Femtum开发了一种2.8µm的新型中红外脉冲光纤激光器，用于选择性去除不同基板上的透明导电膜。
中红外脉冲激光器是薄膜图案化的理想选择，因为大多数导电薄膜基于氧化物材料，在波长约为3µm时具有很强的吸收能力。与UV或近红外激光图案化相比，更容易在不影响基板的情况下选择性地去除这些薄层，基板在这些中红外波长下具有更高的烧蚀阈值。
图 3 显示了使用 Femtum Nano 2800 在 PET 上进行 ITO 图案化的示例，同时采用了正面和背面处理方法。
由于Femtum Nano 2800的出色光束质量，还可以实现小特征尺寸（约10µm）的图案精确化，如图4所示。
图4:PET上ITO的精确图案化，特征尺寸为12um
这款多功能、交钥匙工业光纤激光器能够在各种基材（如柔性聚合物（PET、PMMA、聚酰亚胺等）或其他中红外透明基材（硅、锗））上处理 TCF，从而开辟了从柔性显示器到可穿戴传感器的广泛应用。
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